Электронная библиотека (репозиторий) Томского государственного университета
2021 | статьи в журналах

Add to Quick Collection   All 7 Results

Showing items 1 - 7 of 7.
  • «
  • 1
  • »
Sort:
 Add All Items to Quick Collection
Source: Technical physics letters. 2021. Vol. 47, № 9. P. 629-632
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: The admittance of test MIS structures based on nBn systems from Hg1 – xCdxTe grown by molecular beam epitaxy is investigated. Composition x in the absorbing and contact layers is 0.29; in the barrier ... More
Source: Russian physics journal. 2021. Vol. 64, № 7. P. 1281-1288
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Experimental studies of the admittance of MIS structures based on pentacene with a two-layer insulator SiO2–Al2O3 and back contacts made of various materials (Au, Al, In, and Ag) have been carried out ... More
Source: Письма в журнал технической физики. 2021. Т. 47, № 12. С. 34-37
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Исследован адмиттанс тестовых МДП-структур на основе nBn-систем из Hg1−xCdxTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Состав x в поглощающем и контактном слоях равен 0.29, а состав в барье ... More
Source: Journal of electronic materials. 2021. Vol. 50, № 4. P. 2323-2330
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: The effect of As+ ion implantation on the electrical properties of the near-surface layer of n-HgCdTe films grown by molecular beam epitaxy (MBE) on Si (310) substrates was experimentally studied. A s ... More
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2021. Т. 64, № 7. С. 96-102
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: В широком диапазоне частот, температур и смещений проведены экспериментальные исследования адмиттанса МДП-структур на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2–Al2O3 и различными материалами дл ... More
Source: Письма в журнал технической физики. 2021. Т. 47, № 4. С. 33-35
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Пленки n-Hg0.775Cd0.225Te с приповерхностными широкозонными слоями выращивались методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках из Si (013). Для измерений адмиттанса структуры металл-диэлектрик-пол ... More
  • «
  • 1
  • »
^