Please be patient while the object screen loads.
Электронная библиотека (репозиторий)
Томского государственного университета
English
Русский
Home
Show
All
Show
Quick Collection
Browse ↓
Communities & Collections
By Title
By Creator
By Subject
By Date
Additional Resources
Search History
Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
-
Сделать пожертвование
-
Advanced Search
Preview
Add to "Quick Collection"
Description
Size
Format
Growth of germanium quantum dots on oxidized silicon surface
393 KB
Adobe Acrobat PDF
Read
Download
DOI Доступ к ресурсу на сайте издателя
10.1007/s11182-020-02035-1
#квантовые точки
#кремний
#германий
#оксид кремния
#наногетероструктуры
#молекулярно-лучевая эпитаксия
#критическая толщина
#поверхностная плотность
#функция распределения по размерам
#Фольмера-Вебера механизм
Title
Growth of germanium quantum dots on oxidized silicon surface
Creator
Kokhanenko, Andrey P.
|
Akimenko, Nataliya Yu.
|
Dirko, Vladimir V.
|
Voytsekhovskiy, Alexander V.
|
Lozovoy, Kirill A.
Date
2020
DOI
10.1007/s11182-020-02035-1
Description
Epitaxial growth of germanium quantum dots on an oxidized silicon surface is considered. A kinetic model of
Relationships
Show Relationship Browser for this Object
collection(s)
Научное управление
|
Радиофизический факультет
Identifier
смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type
статьи в журналах
Source
Russian physics journal. 2020. Vol. 63, № 2. P. 296-302
Language
eng
Created: 04-03-2021
3964 Visitors
3673 Hits
343 Downloads
Радиофизический факультет
Научное управление
Growth of germanium quantum dots on oxidized silicon surface
^ DIV >