Приведены результаты исследования короткоимпульсной электрической прочности миллиметровых плоских вакуумных промежутков с электродами, прошедшими обработку электронным пучком. Показано, что напряженность электрического поля первого пробоя вакуумных промежутков с электродами из чистых металлов в значительной степени определяется кристаллической структурой металла. Развитие первого короткоимпульсного пробоя сопровождается очень резким ростом электрического тока. Малая длительность тестирующих импульсов исключает влияние всех известных инерционных механизмов пробоя с характерным временем действия свыше 20 нс. Рассмотрены некоторые общие предположения относительно природы факторов, стимулирующих короткоимпульсный пробой вакуумных промежутков.