Исследование эпитаксиальных гетерослоев GeSi/Si методом рентгеновской дифрактометрии

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Исследование эпитаксиальных гетерослоев GeSi/Si методом рентгеновской дифрактометрии	389 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download

Title: Исследование эпитаксиальных гетерослоев GeSi/Si методом рентгеновской дифрактометрии
Title: The study of GeSi / Si epitaxial heterolayers by X-ray diffractometry
Creator: Карева, Катерина Валерьевна
|
Дирко, Владимир Владиславович
|
Заяханов, Владимир Александрович
Date: 2018

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Физический факультет | Радиофизический факультет
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в сборниках
Source: Физика твердого тела : сборник материалов XVI Российской научной студенческой конференции, Томск, 17–20 апреля 2018 г.. Томск, 2018. С. 205-206
Language: rus

Created: 27-06-2019

740 Visitors

562 Hits

189 Downloads

Радиофизический факультет Исследование эпитаксиальных гетерослоев GeSi/Si методом рентгеновской дифрактометрии