Распределение концентрации имплантируемой примеси при обработке поверхности последовательными импульсами

doi:10.17223/19988621/62/9

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Распределение концентрации имплантируемой примеси при обработке поверхности последовательными импульсами	468 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download
DOI Доступ к ресурсу на сайте издателя			10.17223/19988621/62/9

#математическое моделирование

#последовательные импульсы

Title: Распределение концентрации имплантируемой примеси при обработке поверхности последовательными импульсами
Title: Distribution of the concentration of injected impurity under surface treatment by consecutive pulses
Creator: Парфенова, Елена Сергеевна
Date: 2019
DOI: 10.17223/19988621/62/9
Description: Рассмотрено математическое моделирование начальной стадии поверхностной обработки материала потоком частиц с использованием двух последовательных импульсов. Описана математическая постановка задачи в размерных и безразмерных переменных. Модель учитывает конечность времен релаксации потоков тепла и массы, взаимодействие процессов разной физической природы - распространение механических возмущений и диффузии внедряемого материала. Разработанный численный алгоритм основан на неявной разностной схеме. Приведены примеры решения связанной задачи при обработке одним и двумя импульсами, выявлены различия в получаемых распределениях.

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Журналы ТГУ
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в журналах
Source: Вестник Томского государственного университета. Математика и механика. 2019. № 62. С. 105-118
Language: rus