Особенности кинетики и механизма формирования пленок при оксидировании гетероструктур V2O5/InP, сформированных методами реактивного магнетронного распыления и электрического взрыва проводника

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Особенности кинетики и механизма формирования пленок при оксидировании гетероструктур V2O5/InP, сформированных методами реактивного магнетронного распыления и электрического взрыва проводника	870 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download

#фосфид индия

#оксид ванадия

#магнетронное распыление

#катализ

#оксидирование

Title: Особенности кинетики и механизма формирования пленок при оксидировании гетероструктур V2O5/InP, сформированных методами реактивного магнетронного распыления и электрического взрыва проводника
Creator: Сладкопевцев, Борис Владимирович
|
Томина, Елена Викторовна
|
Заболотская, Анастасия Владимировна
|
Самсонов, Алексей Алексеевич
|
Донцов, Алексей Игоревич
|
Миттова, Ирина Яковлевна
Contributor: Томский государственный университет Химический факультет Научные подразделения ХФ
Date: 2014

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Химический факультет | Журналы ТГУ
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в журналах
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2014. Т. 57, № 7/2. С. 148-153
Language: rus

Created: 10-09-2015

1534 Visitors

1081 Hits

473 Downloads

Химический факультет

Журналы ТГУ Особенности кинетики и механизма формирования пленок при оксидировании гетероструктур V2O5/InP, сформированных методами реактивного магнетронного распыления и электрического взрыва проводника