Влияние термических отжигов на структуру и свойства поверхности вольфрама, облученного низкоэнергетическими α-частицами до высоких флюенсов

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Влияние термических отжигов на структуру и свойства поверхности вольфрама, облученного низкоэнергетическими α-частицами до высоких флюенсов	980 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download

#блистеринг

#вольфрам

#облучение α-частицами

#твердость

#термодесорбция

Title: Влияние термических отжигов на структуру и свойства поверхности вольфрама, облученного низкоэнергетическими α-частицами до высоких флюенсов
Creator: Алдабергенова, Тамара Мустафаевна
|
Кислицин, Сергей Борисович
|
Ганеев, Гелий Закирович
|
Виелеба, Войцех
Date: 2018
Description: Методами сканирующей электронной и атомно-силовой микроскопии, измерения твердости и термодесорбции исследованы изменения морфологии поверхности, накопление гелия и механические свойства высокочистого вольфрама после облучения низкоэнергетическими α-частицами до высоких флюенсов и последующих отжигах. Показано, что за счет действия напряжений в области торможения α-частиц гелий мигрирует на расстояния, значительно превышающие проективный пробег α-частиц, накапливается в кластерах из атомов гелия и гелий-вакансионных комплексах. В области страгглинга с высокой степенью пересыщения гелием формируются наполненные гелием пузырьки, проявляющиеся во вспучиваниях поверхности. Локальные поля напряжений, создаваемые гелиевыми и гелий-вакансионными кластерами в области за пробегом, приводят к упрочнению материала (увеличению твердости). Последующий отжиг до температуры 600 °С ведет к росту размеров блистеров на облученной поверхности и интенсивной десорбции гелия вследствие миграции подвижных комплексов из атомов гелия. С увеличением температуры отжигов от 600 до 1000 °С за счет испускания междоузельных атомов Не из неподвижных гелий-вакансионных комплексов полностью разрушается слой, соответствующий проективному пробегу α-частиц. При этом твердость вольфрама после отжига при 1000 °С восстанавливается до исходного значения.

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Журналы ТГУ
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в журналах
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2018. Т. 61, № 8. С. 117-123
Language: rus

Created: 16-12-2024

204 Visitors

139 Hits

72 Downloads

Журналы ТГУ Влияние термических отжигов на структуру и свойства поверхности вольфрама, облученного низкоэнергетическими α-частицами до высоких флюенсов