Изучено влияние Н₂О₂ на фотодеградацию 5-метоксипсоралена (5-МОП) в этаноле и водно-этанольных растворах под действием излучения KrCl (λᴎзл = 222 нм) и XeBr (λизл = 283 нм) эксиламп. Построена кинетическая модель фототрансформации исследуемой молекулы. Добавление Н₂О₂ слабо увеличивало скорость распада 5-МОП в этаноле под действием излучения KrCl-эксилампы. В водно-этанольных растворах добавление Н2О2 меняло механизм распада 5-МОП при воздействии KrCl-эксилампы по сравнению с облучением XeBr-эксилампы. Показано, что при воздействии излучением XeBr-эксилампы в присутствии Н₂О₂ происходит формирование первичного фотопродукта трансформации 5-МОП в реакции, соответствующей кинетической модели первого порядка как в этаноле, так и в водно-этанольных растворах. Максимальное удаление 5-МОП происходит при соотношении начальных концентраций [5-МОП]:[Н₂О₂] = 1:3 после 60 мин облучения. Установлено, что при воздействии XeBr-эксилампы скорость распада 5-МОП в 5 раз выше в водно-этанольных растворах по сравнению с этанолом. При воздействии излучением KrCl-эксилампы механизм распада 5-МОП соответствует кинетической модели псевдопервого порядка. Характер зависимости скорости распада 5-МОП от времени облучения при соотношении начальных концентраций [5-МОП]:[Н₂О₂] = 1:24 указывает на то, что в процессе распада исходного соединения в системе появляется фотопродукт, который за время облучения распадается на вторичные соединения. Эффективное удаление 5-МОП при этом излучении происходит при соотношении начальных концентраций [5-МОП]:[Н₂О₂] = 1:10 после 60 мин облучения.