Исследование свойств пленок HfO2, выращенных методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения при разных температурах роста

doi:10.17223/00213411/66/6/13

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Исследование свойств пленок HfO2, выращенных методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения при разных температурах роста	1 MB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download
DOI Доступ к ресурсу на сайте издателя			10.17223/00213411/66/6/13

#плазменно-стимулированное атомно-слоевое осаждение

#рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия

#вольт-фарадные характеристики

#тонкие пленки

Title: Исследование свойств пленок HfO2, выращенных методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения при разных температурах роста
Title: Studying the properties of HfO2 films grown by plasma-enhanced atomic layer deposition at different growth temperatures
Creator: Горшков, Дмитрий Витальевич
|
Закиров, Евгений Рашитович
|
Сидоров, Георгий Юрьевич
|
Сабинина, Ирина Викторовна
|
Гутаковский, Антон Константинович
|
Вдовин, Владимир Ильич
Date: 2023
DOI: 10.17223/00213411/66/6/13
Description: Изучены свойства тонких пленок HfO2, выращенных методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой кислорода при температурах в диапазоне 80–160 °C. Для каждой температуры определено оптимальное время пост-плазменной откачки, при котором скорость роста за один цикл выходила на насыщение. Исследование химического состава методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии позволило установить, что увеличение времени пост-плазменной откачки приводит к уменьшению концентрации примесей, таких как азот и углерод, в пленке HfO2. Были измерены следующие электрофизические параметры выращенных пленок HfO2: емкость, диэлектрическая постоянная и плотность тока утечки. Исследования поперечных срезов диэлектрика методом ПЭМ показали наличие «зернистой» структуры в пленке HfO2, выращенной при температуре 80 °C.

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Журналы ТГУ
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Rights: Resource access is available in the premises of Research Library
Type: статьи в журналах
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2023. Т. 66, № 6. С. 111-119
Language: rus

Created: 05-09-2023

881 Visitors

906 Hits

2 Downloads

Журналы ТГУ Исследование свойств пленок HfO2, выращенных методом плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения при разных температурах роста