Воздействие ионного облучения (Аr+, E = 15−20 кэВ) на микроструктуру деформированного сплава Ni - 13.9 мас.% W

doi:10.17223/00213411/65/1/112

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Воздействие ионного облучения (Аr+, E = 15−20 кэВ) на микроструктуру деформированного сплава Ni - 13.9 мас.% W	521 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download
DOI Доступ к ресурсу на сайте издателя			10.17223/00213411/65/1/112

#ионное облучение

#рентгеновская дифракция

#рекристаллизация

#высокотемпературные сверхпроводники

Title: Воздействие ионного облучения (Аr+, E = 15−20 кэВ) на микроструктуру деформированного сплава Ni - 13.9 мас.% W
Creator: Гущина, Наталья Викторовна
|
Воронин, Владимир Иванович
|
Проскурнина, Наталья Владимировна
|
Бобровский, Владимир Иванович
|
Шаломов, Константин Владиславович
|
Овчинников, Владимир Владимирович
Date: 2022
DOI: 10.17223/00213411/65/1/112
Description: С помощью рентгеноструктурного анализа исследовано воздействие ионов Ar+ c энергией 15−20 кэВ (при плотностях ионного тока 100−300 мкА/см2) на микроструктуру, уровень внутренних микронапряжений и текстуру лент сплава Ni – 13.9 мас.% W, подвергнутых высокой степени холодной деформации. Установлено, что кратковременное облучение лент толщиной 80 мкм флюенсом ∼ 3.1·1016 см–2 (в течение 50 с) при температурах Т ≤ 370 °С и Т = 630°C приводит к уменьшению микронапряжений во всем их объеме, но при этом сохраняется исходная текстура. При увеличении флюенса до 9.7·1017 см–2 при Т = 630°C происходит изменение текстуры от (220) к (200). Изменения микронапряжений и текстуры с облученной и необлученной стороны лент толщиной 80 мкм сопоставимы между собой, несмотря на то, что проективный пробег ионов Ar+ с энергией 15−20 кэВ в сплаве составляет всего лишь ∼ 7 нм. Известно, что отжиг в печи (700 °С, 30 мин) таких лент не приводит к их рекристаллизации. При 850 °С снятие микронапряжений и кардинальное изменение текстуры от (220) к (200) происходит как в ходе отжига в печи (15 с), так и в ходе облучения флюенсом 3.2·1016 см–2 в течение 17 с, однако эффект снятия напряжений при печном отжиге в 3 раза ниже, чем при облучении. Таким образом, установлены факты: 1) протекания процессов рекристаллизации в исследуемом сплаве в ходе облучения при температуре ниже температуры начала термоактивированной рекристаллизации; 2) более высокой скорости падения микронапряжений (и до более низких значений) при облучении, чем при печном отжиге. Это свидетельствует о существенной роли наномасштабных радиационно-динамических эффектов при каскадообразующем облучении метастабильных сред.

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Журналы ТГУ
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в журналах
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2022. Т. 65, № 1. С. 112-118
Language: rus

Created: 04-03-2022

961 Visitors

957 Hits

15 Downloads

Журналы ТГУ Воздействие ионного облучения (Аr+, E = 15−20 кэВ) на микроструктуру деформированного сплава Ni - 13.9 мас.% W