https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Index ${session.getAttribute("locale")} 5 Defects in arsenic implanted p+-n- and n+-p-structures based on MBE grown CdHgTe films https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000634710 Wed 31 Oct 2018 10:57:44 KRAT ]]> Радиационные донорные дефекты в имплантированных As МЛЭ пленках Cd0.3Hg0.7Te: накопление и отжиг https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000891049 Wed 30 Mar 2022 09:30:47 KRAT ]]> Analysis of carrier species in arsenic-implanted p- and n-type Hg0.7Cd0.3Te https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000901902 Wed 19 Oct 2022 11:05:10 KRAT ]]> Исследование методом спектроскопии адмиттанса МДП-структур на основе МЛЭ Hg1–xCdxTe после ионной имплантации бора https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000472586 Wed 11 Sep 2019 10:15:39 KRAT ]]> Особенности создания кремний-германиевых наноструктур с квантовыми точками для перспективных приборов микро- и оптоэлектроники https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000493293 Wed 06 Sep 2017 13:22:17 KRAT ]]> Радиационные донорные дефекты в имплантированных As МЛЭ пленках CdHgTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000658540 Tue 18 Jun 2019 09:52:33 KRAT ]]> Admittance studies of modification of HgCdTe surface properties with ion implantation and thermal annealing https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000794654 Tue 09 Mar 2021 13:25:41 KRAT ]]> Влияние имплантации ионов As+ и последующего отжига на электрические свойства приповерхностных слоев варизонных пленок n-Hg0.78Cd0.22Te https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000895314 Tue 07 Jun 2022 10:57:49 KRAT ]]> Дефекты в имплантированных мышьяком р+n- и n+p-структурах на основе пленок CdHgTe, выращенных МЛЭ https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000623454 Thu 30 Jul 2020 11:44:28 KRAT ]]> Влияние режимов имплантации бора на параметры фотодиодов, сформированных в гетероэпитаксиальных слоях CdXHg1–XTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000460651 Thu 05 Sep 2019 10:15:29 KRAT ]]> Альтернативные технологии создания структур с квантовыми точками Ge/Si https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000617825 Sat 30 Dec 2017 13:17:38 KRAT ]]> Влияние состава варизонного слоя на формирование n+–n−–p-структур в имплантированных бором гетероэпитаксиальных слоях CdxHg1–xTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000477749 Mon 16 Sep 2019 11:38:16 KRAT ]]> Электрофизические характеристики МДП-структур на основе МЛЭ КРТ после ионной имплантации бора https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000448691 Mon 02 Sep 2019 13:15:15 KRAT ]]> Distribution profiles of radiation donor defects in arsenic-implanted HgCdTe films https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000659459 Mon 01 Jul 2019 10:38:30 KRAT ]]> Состав носителей в имплантированных бором МЛЭ пленках р-CdHgTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000926082 Fri 30 Dec 2022 15:13:29 KRAT ]]> Ионная имплантация в гетероэпитаксиальные слои и кристаллы p-CdxHg1-xTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000501487 Fri 15 Sep 2017 10:52:04 KRAT ]]> Влияние различных стадий процессов ионной имплантации и отжига в МЛЭ HgCdTe на адмиттанс тестовых структур металл-диэлектрик-полупроводник https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000709242 Fri 15 May 2020 10:47:51 KRAT ]]> Локализация и природа радиационных донорных дефектов в имплантированных мышьяком МЛЭ пленках CdHgTe https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000709246 Fri 15 May 2020 09:30:58 KRAT ]]> The effect of As+ Ion implantation and annealing on the electrical properties of near-surface layers in graded-gap n-Hg0.78Cd0.22Te films https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000893727 Fri 13 May 2022 10:08:43 KRAT ]]> Influence of As+ Ion implantation on properties of MBE HgCdTe near-surface layer characterized by metal–insulator–semiconductor techniques https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000893721 Fri 13 May 2022 10:01:28 KRAT ]]>