Электронная библиотека (репозиторий) Томского государственного университета
статьи в журналах

Add to Quick Collection   All 73 Results

Showing items 1 - 15 of 73.
Sort:
 Add All Items to Quick Collection
Source: Physica scripta. 2023. Vol. 98, № 6. P. 065907
Type: статьи в журналах
Date: 2023
Description: This work is devoted to a comprehensive experimental study of the electrical and photoelectric characteristics of barrier photosensitive structures in the NBνN configuration based on n-HgCdTe (MCT). S ... More
Source: Semiconductors. 2022. Vol. 56, № 9. P. 707-711
Type: статьи в журналах
Date: 2022
Description: The electrical and photovoltaic characteristics of the Ga2O3/n-GaAs structures have been studied. A gallium oxide film was obtained by HF magnetron sputtering on n-GaAs epitaxial layers with concentra ... More
Source: Прикладная физика. 2022. № 4. С. 40-45
Type: статьи в журналах
Date: 2022
Description: Проведено исследование структур металл-диэлектрик-полупроводник (МДП) на основе n-HgCdTe (КРТ), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ), в конфигурации NBvN, предназначенных для разраб ... More
Source: Физика и техника полупроводников. 2022. Т. 56, № 9. С. 928-932
Type: статьи в журналах
Date: 2022
Description: Исследованы электрические и фотоэлектрические характеристики структур Ga2O3/n-GaAs. Пленку оксида галлия получали ВЧ магнетронным напылением на эпитаксиальные слои n-GaAs с концентрацией N_d=9.5·1014 ... More
Source: Technical physics letters. 2021. Vol. 47, № 9. P. 629-632
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: The admittance of test MIS structures based on nBn systems from Hg1 – xCdxTe grown by molecular beam epitaxy is investigated. Composition x in the absorbing and contact layers is 0.29; in the barrier ... More
Source: Russian physics journal. 2021. Vol. 64, № 7. P. 1281-1288
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Experimental studies of the admittance of MIS structures based on pentacene with a two-layer insulator SiO2–Al2O3 and back contacts made of various materials (Au, Al, In, and Ag) have been carried out ... More
Source: Письма в журнал технической физики. 2021. Т. 47, № 12. С. 34-37
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Исследован адмиттанс тестовых МДП-структур на основе nBn-систем из Hg1−xCdxTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Состав x в поглощающем и контактном слоях равен 0.29, а состав в барье ... More
Source: Journal of electronic materials. 2021. Vol. 50, № 4. P. 2323-2330
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: The effect of As+ ion implantation on the electrical properties of the near-surface layer of n-HgCdTe films grown by molecular beam epitaxy (MBE) on Si (310) substrates was experimentally studied. A s ... More
Source: Journal of communications technology and electronics. 2021. Vol. 66, № 3. P. 337-339
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: The admittance of MIS structures based on n(p)-Hg1–xCdxTe (x = 0.21–0.23) grown by molecular-beam epitaxy on Si and GaAs substrates is studied. The possibility of increasing the value of the product o ... More
Source: Известия высших учебных заведений. Физика. 2021. Т. 64, № 7. С. 96-102
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: В широком диапазоне частот, температур и смещений проведены экспериментальные исследования адмиттанса МДП-структур на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2–Al2O3 и различными материалами дл ... More
Source: Письма в журнал технической физики. 2021. Т. 47, № 4. С. 33-35
Type: статьи в журналах
Date: 2021
Description: Пленки n-Hg0.775Cd0.225Te с приповерхностными широкозонными слоями выращивались методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках из Si (013). Для измерений адмиттанса структуры металл-диэлектрик-пол ... More
Source: Semiconductor science and technology. 2020. Vol. 35, № 5. P. 055026 (1-7)
Type: статьи в журналах
Date: 2020
Description: Metal-insulator-semiconductor (MIS) structures were fabricated by depositing an Al2O3 dielectric on
Source: Surface and coatings technology. 2020. Vol. 392. P. 125760 (1-5)
Type: статьи в журналах
Date: 2020
Description: Metal–insulator–semiconductor (MIS) structures based on HgCdTe were fabricated after various stages of pn
Source: Applied nanoscience. 2020. Vol. 10, № 8. P. 2489-2494
Type: статьи в журналах
Date: 2020
Description: Hg1−xCdxTe grown by molecular beam epitaxy including HgTe single quantum well (SQW) with thickness of 6.5 nm were

Date

^