Актуальность исследования процессов генерации пучков и плазмы, содержащих ионы бора, обусловлена их потребностью для ионно-пучковых и плазменных технологий модификации свойств поверхности не только полупроводниковых, но и конструкционных материалов. Это связано с тем, что соединения бора являются твердыми химически стойкими материалами и на их основе возможно создание упрочняющих и защитных покрытий поверхности широкой номенклатуры деталей. Представлены принцип работы и характеристики экспериментального оборудования, разработанного для генерации плазмы и пучков ионов бора для создания таких покрытий, а именно: источника ионов на основе вакуумной дуги с сепарацией изотопов бора в магнитном поле для осуществления высокодозной ионной имплантации, генератора плазмы с мишенью из бора для нанесения покрытий методом магнетронного распыления и форвакуумного электронного источника для синтеза на поверхности борсодержащих покрытий методом электронно-лучевого испарения.