Исследование эпитаксиального роста тонких пленок кремния и германия методами дифракции электронов и с помощью кварцевого измерителя толщины

Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
- Сделать пожертвование -

Add to "Quick Collection"

Description	Size	Format
Исследование эпитаксиального роста тонких пленок кремния и германия методами дифракции электронов и с помощью кварцевого измерителя толщины	520 KB	Adobe Acrobat PDF	Read	Download

#кварцевые измерители толщины пленок

#эпитаксиальные слои германия

#эпитаксиальные слои кремния

#дифракция быстрых электронов

Title: Исследование эпитаксиального роста тонких пленок кремния и германия методами дифракции электронов и с помощью кварцевого измерителя толщины
Title: The study of the epitaxial growth of thin silicon and germanium films by electron diffraction techniques and by ultrasonic thickness gauge
Creator: Дирко, Владимир Владиславович
|
Заяханов, Владимир Александрович
Date: 2018

Relationships: Show Relationship Browser for this Object
collection(s): Радиофизический факультет
Identifier: смотреть в электронном каталоге НБ ТГУ
Type: статьи в сборниках
Source: Физика твердого тела : сборник материалов XVI Российской научной студенческой конференции, Томск, 17–20 апреля 2018 г.. Томск, 2018. С. 191-194
Language: rus

Created: 27-06-2019

521 Visitors

346 Hits

190 Downloads

Радиофизический факультет Исследование эпитаксиального роста тонких пленок кремния и германия методами дифракции электронов и с помощью кварцевого измерителя толщины