Исследовано влияние кислотности среды на текстурные характеристики силикагелей, полученных золь–гель-методом при использовании тетраэтоксисилана (ТЭОС) как прекурсора кремнезема и цетилтриметиламмоний бромида (ЦТАБ) в качестве темплата. Методом ИК-спектроскопии изучены мицеллярные растворы ТЭОС и синтезированные образцы силикагеля. Установлено, что в щелочной среде в водно-этанольном растворе ближний порядок SiО2 формируется на поверхности мицелл, образованных молекулами ЦТАБ, а в кислой среде – независимо от их присутствия. Методами азотной порометрии и электронной микроскопии установлено, что при значении pH 2 формируется микропористый силикагель со средним размером пор 2 нм. В щелочной среде при pH 10 образуется мезопористый SiO2 (18 нм) с узким распределением пор по размерам и удельной поверхностью 110 м2/г